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千禧年半导体生存指南
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第三百六十五章 两边的进展(第3/3页)
回到张江后倍感压力。“在制造过程中,A**L他们整的这套一体化光刻技术充分利用独特的测量技术和反馈回路,可以实时监控刻蚀精度和CPU性能,使系统持续以工艺规格为中心。”林本坚继续说。新芯光刻机的技术专家们汇聚一堂,大家都在讨论A**L这次放的大招,可能给新芯光刻机带来的影响,以及他们要怎么追赶。“老实说这一套我们也能搞,问题是我们需要知道,A**L在这套技术路线里,设置了哪些专利墙,如果专利墙太多,我们可能要想绕开的办法。”新芯光刻机的某位技术专家说。(本章完)
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